設備的研發。其應用領域在光電（液晶顯示器，有機發光二極體）、半導體（如 IC，電子封裝）、印刷電路板、精密機械（模具，工具鍍膜）、光纖通訊、微機電等產業，提供 ...

Plasma Technology introduction — 電漿清潔原理 電漿清潔的主要反應機制有兩種: 其一為物理反應，利用離子的動能轟擊待處理物，將表面的雜質擊出，達到清潔的效果。另一種為化學反應，藉由電漿中自由基或介穩態的高活性氣體分子，與表面的雜質進行 ...

電漿清潔 (蝕刻)原理 : 利用高頻的電源所產生的電漿，來帶動氣體離子轟擊基底材料，以達到表面清潔 (蝕刻)的效果。 其功能包含了： 1. 表面活化 2. 表面清潔 3. 微蝕刻化 4. 交錯連結 5. 化學改質 能有效改善被處理素材的表面濕潤性與表面能、增加附著 ...

電漿 設備專業製造商，暉盛科技，各式專業電漿設備，電漿 ...

電漿清潔 的應用 IC封裝前、wire bond前 印刷電路板貼合、印刷、電鍍或sputter前 IC 去除殘餘光阻 液晶面板趨動IC封裝前 光學塑膠鍍膜印刷前 光學或特殊薄膜塗佈前 ...

．處理均勻性佳 ．離子能量低、不損傷基板 ．沒有電極及基板的汙染 ．專利設計之特殊電漿電極 ．高密度電漿源 ＊電漿效率高、清潔效率高 ＊可控制低的離子能量 ＊結合化學反應性及物理撞擊性

微波電漿清洗機 介紹： 1.封測應用上為在封裝打線前由AR電漿清洗基材與晶片上鋁銲墊端點。膠合前藉由O2電漿活化基材上綠漆表面，以與 COMPOUND間有更強接著強度。 2.太陽能基板應用，為在元件擴散製程後P-N接合界面，利用 CF4電漿進行蝕刻處理，以 ...

壹. 基本原理 經Enercon電漿清洗機(Plasma)高壓放電所產生電離子氣體，藉由空氣壓縮機將氣體 噴出電離子氣體(電漿)，當離子氣體接觸工件表面時，產生化學作用與物理變化，使工件 表面得到清潔可去除油脂、輔助接合劑…等污物，其工件表面分子鏈結構 ...

微波電漿清洗改善12寸(0.11um) DRAM 構裝體內金線銲接 逢甲大學e-Thesys(94學年度) 誌 謝 由衷感謝電子系在職專班的老師們犧牲了與家人相聚的時間，給予 我在職進修的機會，更感謝在論文口試期間，許渭州 系主任、蔡榮輝 教

電漿清潔應用的操作壓力較高，再藉由增加電極面積或產生中空陰極效應(圖9) 來降低電極電位，可以大大減低電極污染的問題，此種電漿清潔設備為市售電漿 清潔器採用最多者。 圖8.高周波電漿 圖9.中空陰極高周波電漿 ...