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快速有效又低成本的化學機械研磨(CMP)
2011/03/15 11:31:58瀏覽540|回應0|推薦0
Sinmat開發先進的研磨技術,製程,工程基板和半導體器件。 Sinmat的技術能夠提高性能和降低半導體器件製造成本

公司提供多項獨特的化學機械研磨(CMP)製造技術目前和下一代半導體,清潔能源,及先進材料產業所需,如下列用途:

    *電腦芯片和存儲設備
    *電網
    * LED器件
    *混合動力電動汽車

Sinmat研磨技術是根據公司獨特的技術所創造的工程泥漿, 這是納米顆粒和化學物質的
混合平滑和粗糙的平衡;  能快 無缺陷表面  這樣的製程可應用於各種材料和設備系統,如矽和化合物半導體及其他先進材料。
( 知識學習科學百科 )
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引用
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